NIR DMD

DMD의 핵심 구조는 CMOS 드라이버 칩에 통합된 수십만 ~ 수백만 개의 정사각형 마이크로미러 배열로 구성됩니다. -각각 독립적으로 전기적으로 제어 가능-. 각 마이크로미러는 구동 회로를 통해 약 ±10도의 고정 각도로 기울일 수 있는 독립적으로 주소 지정이 가능한 장치에 해당합니다. 양의 각도로 기울어지면 입사 NIR 빛이 광학 시스템의 활성 광 경로("ON" 상태)로 반사됩니다. 음의 각도로 기울어지면 입사광이 광-흡수 구성요소("OFF" 상태) 쪽으로 반사됩니다. 서로 다른 위치의 마이크로미러 전체에 걸쳐 ON/OFF 상태 조합을 인코딩함으로써 NIR 조명 필드의 임의의 공간 변조를 달성할 수 있습니다.

기존 가시광선 DMD에 비해 NIR DMD(700nm 이상에서 작동)의 핵심 장점은{1}}NIR 응용 분야에 맞게 특별히 맞춤화된 설계에서 비롯됩니다. 첫째, 기판과 마이크로미러 구조는 NIR 광에 대해 더 낮은 흡수율과 더 높은 반사율을 나타냅니다. 표준 가시광선 DMD에 사용되는 알루미늄 반사층은 1000nm를 초과하는 파장에서 흡수 손실이 상당히 증가하는 반면, NIR DMD는 일반적으로 반사율이 높은 금 코팅이나 특수 반사 방지{5}}반사/향상된{6}}반사 구조를 사용합니다. 이는 700nm~2500nm 범위에서 전체 반사율이 85%를 초과하여 광학 에너지 손실을 크게 줄입니다. 둘째, 이러한 장치는 NIR 대역에 고유한 누화 문제를 해결합니다. 특별히 설계된 마이크로미러 갭과 격리 구조는 NIR 회절 누출과 기판 투과를 최소화하여 광 필드 변조의 대비를 향상시킵니다. 현재 근-적외선(NIR) DMD는 여러 분야에 걸쳐 성숙한 응용 분야를 달성했습니다. NIR 스펙트럼 이미징에서 이 장치는 기존 기계식 스캐닝 슬릿을 대체하여 움직임이 없는-초분광 이미징을 구현하고 획득 시간을 크게 단축합니다. 이는 농산물 품질 검사, 생체의학 NIR 조직 이미징, 산업 비{16}}비파괴 검사와 같은 응용 분야에 널리 사용됩니다. 레이저 가공에서 이 장치는 NIR 광섬유 레이저와 함께 작동하여 동적 빔 형성 및 유연한 패턴 가공을 촉진하므로 공작물이나 레이저 소스를 이동하지 않고도 복잡한 패턴을 생성할 수 있습니다. 생의학 분야에서는 NIR DMD를 통해 지원되는 구조화된 조명 및 적응형 광학 기술과 결합된 NIR 광선-과 관련된 생물학적 조직에 대한 깊은 침투 깊이와 최소한의 광손상을 통해 심부 조직 형광 이미징과 광역학 치료가 향상되었습니다.- 또한 이 장치는 NIR 3D 감지, 천문 관측을 위한 적응광학, 자유공간 광통신 등의 분야에서 없어서는 안 될 역할을 합니다.

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